前回は、足部のバネとクッション機能についてお話させていただきました。どちらの機能においても足底腱膜の張力を十分に利用したものであり、そのためには、第5列の機能が重要であることをお伝えさせていただきました。

 

そこで足底腱膜について少し掘り下げ、今回は、足底腱膜の疼痛における力学的ストレスについてお話させていただきます。

足底腱膜は踵骨隆起(内側突起)から第1-5趾基節骨に付着します。

機能として、荷重により、足部アーチを保持します。また、立位時に足部に加わる荷重の1/2は踵部へ伝達されます。

足趾の伸展により、足底腱膜の前方部分は遠位側に滑走し、足底腱膜の緊張が亢進することで、前足部の剛性が高まります。(Windllas機構)歩行の立脚終期で、前足部の剛性を高め、前方に推進するためには、足底腱膜の緊張が不可欠になります。

 

 

足底腱膜の疼痛における力学的ストレスの要因2つ挙げられます

1つは、荷重による圧迫負荷です。

疼痛の出現する動作として、歩行ではInicial contactMid stance、ランニングではFoot strikeMid support期といった衝撃吸収をする時期にみられます。

 

 

疼痛の要因として、足底腱膜付着部(踵骨隆起内側)の牽引負荷による骨棘形成や踵骨下脂肪体の炎症部位への圧迫といった器質的な変化が疼痛をきたしやすいと報告されています。

 

そのため、疼痛部位の免荷がストレスを軽減させる上で重要となります。

圧迫ストレスは踵に荷重が集中することでかかります。

後足部回内位となることで重心(足圧)が踵部に集中するため、アライメントを評価し改善する必要があると考えます。

 

2つめに、伸張負荷です。

疼痛の出現する動作は、歩行のHeel off以降やランニングでのTake off期といった推進期に出現します。

 

Heel off以降にWindllasの作用により、足底腱膜付着部以外の足底に疼痛が出現します。これは、距腿関節の背屈制限によって、MP関節の伸展運動が過剰となるため、足底腱膜の伸張ストレスが増大すると考えられています。

 

そのため、距腿関節の背屈制限の改善がストレスを軽減する上で重要となります。

背屈制限により、代償的に後足部の過回内をきたすことも多く経験します。背屈制限の原因を捉え、早期の改善が必要であると考えています。

 

 

評価として、疼痛部位を把握した上で、圧痛・伸張痛(Windllasの再現)・動作時痛(どの動作で出現するのか)から、疼痛原因を明確にし、アプローチを進めていきます。

 

今回も最後までお読みいただき、ありがとうございました。